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9784431547945 - Seiji Samukawa: Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - 本

Seiji Samukawa (?):

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System (?)

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Seiji Samukawa, Books, Science and Nature, Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System, Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
カテゴリ: Books>Science and Nature
データ 2017年04月11日 11:51h
ISBN (代替表記): 4-431-54794-0, 978-4-431-54794-5
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Seiji Samukawa (?):

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System (?)

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Feature-Profile-Evolution-in-Plasma-Processing-Using-On-wafer-Monitoring-System~~Seiji-Samukawa, Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System, Paperback
カテゴリ: Science>Science of Technology>Science of Technology
データ 2017年04月11日 11:51h
ISBN (代替表記): 4-431-54794-0, 978-4-431-54794-5
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9784431547945 - Samukawa, Seiji: Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - 本

Samukawa, Seiji (?):

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System (?)

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This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described.
カテゴリ: Books~~Technology & Engineering~~Nanotechnology & Mems
データ 2017年04月11日 11:51h
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利用可能な古書、古本とタイトルの 2 番目の手の書籍 "Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System" 差出人 Samukawa, Seiji 完全に記載されています。

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